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エムディコムのエキシマランプ

現在実用化されているエキシマランプは真空紫外光の用途が主で、そのうちでもキセノンエキシマランプの172nmがほとんどで、その際発生するオゾンと併用される場合が多い。その用途は多岐にわたり、ガラス基板等の表面に付着した有機物等を除去する光洗浄や、リソグラフィーのレジストのアッシング、シリコンゴムやフッ素樹脂の表面改質、光CVDによるSiO２膜の作成などがある。ここでは一例として広く行なわれているガラス板の表面の光洗浄について、接触角による評価結果を図８に示す。ランプとしては172nmのキセノンエキシマランプを用い、185nmを出す低圧水銀ランプの結果と比較して示す。
エキシマランプは約15秒の照射で接触角がほとんどゼロに成るが、低圧水銀ランプでは220秒掛かっている。