| 会社情報 |
| 会社名 | 株式会社 エム・ディ・コム |
| 設立 | 1981年7月1日（エム・ディ・コム） |
| 資本金 | 4000万円 |
| 代表者 | 代表取締役社長 港谷 和雄 |
| 本社 | 〒224-0029 神奈川県横浜市都筑区南山田3-6-33 TEL: 045-592-9252 FAX: 045-592-9255 |
| 従業員数 | 16名 |
| 事業内容 | エキシマVUV関連装置の開発設計・販売 電子機器、電源装置の開発設計・販売 |
| アクセス |
| 地下鉄 | ・横浜市営地下鉄グリーンライン線 北山田駅 1番出口より徒歩10分 ……… ルートを表示
・横浜市営地下鉄グリーンライン線 東山田駅より徒歩10分 ……… ルートを表示 |
| バス | ・横浜市営地下鉄線 センター北駅より 東急バス : 南53(内回り)サレジオ学院循環、北51東山田営業所行き、北53(内回り)サレジオ学院循環 た91たまプラーザ駅南口行（サレジオ学院・北山田駅経由） ⇒「寺窪バス停」下車 徒歩3分 ・東急東横線 綱島駅より 東急バス : 江田駅行、勝田折返所行、中山駅行 ⇒「堀の内」下車 徒歩5分 |
| 海外拠点 |
| ■韓国ソウル | |
| 拠点名 | KMDP CO.,LTD. |
| 住所 | Room421, LifeCOmbi B/D, Yoido-dong, Yeoungdeungpo-ku, Seoul, 150-010, REPUBLIC OF KOREA |
| TEL/FAX | TEL: +82-2-761-1224 FAX: +82-2-761-1225 |
| ■中国 | |
| 代理店 | 南京博创半导体设备有限公司 B&C(Nanjing Bochuang Semiconductor Equipment Co., Ltd） |
| 住所 | 江苏省南京市栖霞区（新港国家高新技术产业园）恒泰路6号 Nanjing Bochuang Semiconductor Equipment Co., Ltd No6, HengTai Road, XinGang National High tech 'Industrial Park, QiXia District, Nanjing, Jiangsu China Postal code:210033 |
| TEL/FAX | TEL: :+86-13585132809 |
| web | en.njbochuang.cn |
| ■台湾 | |
| 代理店 | KAIPU Technology (開普科技股份有限公司） |
| 住所 | 新竹縣竹北市博愛街711巷4弄20號（邮编:30265) |
| TEL/FAX | TEL:+886-3-5551699 FAX:+886-3-5551799 |
| web | http://www.kaipu.com.tw |
| 沿革 |
■弊社の歴史
| 1981年 | 有限会社ミナト電子エンジニアリング設立 ブラウン管検査装置の製造販売 |
| 1983年 | CRT駆動電源装置開発 |
| 1988年 | CRT一次検査装置開発 |
| 1992年 | 社名を「株式会社エムディコム」に変更 |
| 1993年 | 本社新社屋落成 |
| 1994年 | 液晶検査装置開発 |
| 1995年 | 韓国ソウル現地法人 KOREA MDCOM CO., LTD.設立 |
| 1997年 | エキシマ照射装置開発・販売開始 カナダIPS社と業務提携(CRT事業) |
| 1998年 | 本社社屋増築 中国上海現地法人 MDCOM中国連絡事務所設立 |
| 1999年 | ITC調整支援装置納入 |
| 2000年 | 株式会社エムディエキシマ設立 |
| 2003年 | 量産用エキシマ照射装置有効長1500mm納入 222nm KrClエキシマランプ開発 |
| 2004年 | エキシマ照射装置有効長500mm, 750mm, 1300mm1500mm, 1800mm納入、2500mm以上対応 本社にクリーンルーム（クラス10000）設置 スーパースリム用CRT駆動電源開発 |
| 2005年 | 真空対応エキシマ照射装置開発 台湾へ液晶第6世代用エキシマ照射装置納入 |
| 2006年 | フィルム用エキシマ照射装置開発、量産ラインへ納入 量産用エキシマ照射装置(有効長750mm24灯)納入 165nm, 191nm, 222nm,253nm,308nmエキシマランプ開発 DY生産ライン納入 |
| 2007年 | 量産用エキシマ照射装置有効長330mm納入 |
| 2008年 | 100mW/c㎡ 172nmエキシマランプ開発 高照度222nm(KrCl)エキシマランプ開発 大気圧プラズマ照射装置開発 新型真空対応エキシマ照射装置開発 大型基板(有効長2000mm、2200mm)エキシマ照射装置納入 |
| 2009年 | 172nm高照度エキシマランプ開発 HD用エキシマ両面照射装置(有効長400mm4灯)納入 |
| 2010年 | 高照度222nm（80W/c㎡ ）エキシマ照射装置開発 量産用エキシマ照射装置有効長330mm納入 フィルム表面改質用エキシマ照射装置納入 253nmエキシマ照射実験装置開発・納入 |
| 2011年 | 超高照度172nm（200W/c㎡ ）エキシマ照射装置開発 |
| 2012年 | フィルム用大型量産ライン導入 |
| 2015年 | 株式会社エムディエキシマ合併吸収 |
