| ランプユニット/コンベア搬送式 |
| MEUTHW-9-330 |
圧倒的均一性
MEUTHW-9-330はφ300ウェハーをターゲットにデザインされたエキシマ面照射ユニットです。40mmピッチで9本のランプを設置＆個々のランプが照度調整可能な為、圧倒的均一性の面照射UV処理が可能になりました。
また、新型空冷RF電源＆ハイパワーランプを搭載しており、高照度かつ安定的なUV出力を実現しました。
参考仕様 Specifications
| ランプ | Xe (キセノン) エキシマランプ |
| 波長 | 172nm |
| ランプ搭載数 | 9本*1 |
| 照射部サイズ | 430×530×150(H)mm*1 |
| 開口部(石英窓サイズ) | 320ｍｍ角(350mm角) |
| 照度 | 120 mW/c㎡ 以上(管面) 40 mW/c㎡ 以上(窓面) |
| 照度均一性 | ±5%以内 (9点測定) |
| ■ Note *1 ランプ本数、有効長、照射装置サイズ：カスタマイズ対応 |
| 用途: *SiN膜 SiO2膜スピード形成 *PHPS（Per Hydro Poly Silazan)硬化 *ウェハ表面洗浄 *レジスト剥離 アッシングなど |
